高分辨無掩模直寫光刻機

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業(yè)供應商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩模板的設計通常需要經常改變。激光直寫光刻技術通過以軟件設計電子掩模板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩模板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦軟件控制，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案，無需掩膜工序。絕大多數(shù)利用電子束刻蝕制造的器件只有很小的一部分結構需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時間都浪費在了如電極連接等大面積結構的生成上。我們產品可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費用昂貴、速度緩慢的電子束刻蝕加工細小的結構，且可加工大面積部分。先進的對準機制可以使兩部工序完美結合。因此LW405D也適用于已經擁有電子束刻蝕的實驗環(huán)境。